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高真空磁控溅射镀膜机 JCPY500 北京泰科诺科技

产品/服务:
有效期至: 长期有效
最后更新: 2017-11-24 13:25
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“高真空磁控溅射镀膜机 JCPY500 北京泰科诺科技”参数说明

是否有现货: 认证: IS0:9001
加工定制: 品牌: 北京泰科诺科技
镀种: 真空镀膜 适用范围: 单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜等
产品别名: 高真空磁控溅射镀膜设备 电镀电源: 双脉冲电源
型号: JCPY500 规格: Φ500×H450mm
商标: 泰科诺 包装: 木箱
产量: 50

“高真空磁控溅射镀膜机 JCPY500 北京泰科诺科技”详细介绍

     北京泰科诺科技有限公司成立于2003年,10多年行业经验专注于真空镀膜产品的研发、生产制造和销售,专为各大专院校、科研院所和生产企业服务。产品遍布全国各个省市、自治区、直辖市和港澳台,远销美国、澳大利亚、土耳其、哈萨克斯坦等国。目前独立开发的ZHD蒸发系列、JCP磁控溅射系列、TEDM电子束系列、ZDM装饰镀系列、GDM硬质涂层系列,HF热丝金刚石系列等等工艺成熟,性能稳定;可根据用户不同需求,实现个性化定制服务,提供售前打样,售中调整,售后跟踪一条龙服务,是一家现代化的高新技术企业。



一、产品概述

1、适用:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

2、产品特点/用途

► 设备可溅射/蒸发两用;占地面积小,价格便宜,性能稳定,使用维护成本低;

► 可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等;

► 镀膜示例:银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等;

► 单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。

二、技术参数

型号 JCPY500
真空腔室结构 立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷
真空腔室尺寸 Φ500×H450mm,带Load-Lock功能,支持单片或多片进取样
加热温度 室温~500℃
溅射方式 向上溅射
旋转基片台 Φ150mm
膜厚不均匀性 Φ100mm范围内≤±5.0%
溅射靶/蒸发电极 Φ2、Φ3、Φ4英寸磁控靶2-4支可选
工艺气体 3路气体流量控制
控制方式 PLC控制/工控机全自动控制可选
占地面积 (主机)L1800×W800×H1845mm
总功率 ≥15KW

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