“高真空磁控溅射镀膜机 JCPY500 北京泰科诺科技”参数说明
是否有现货: | 否 | 认证: | IS0:9001 |
加工定制: | 是 | 品牌: | 北京泰科诺科技 |
镀种: | 真空镀膜 | 适用范围: | 单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜等 |
产品别名: | 高真空磁控溅射镀膜设备 | 电镀电源: | 双脉冲电源 |
型号: | JCPY500 | 规格: | Φ500×H450mm |
商标: | 泰科诺 | 包装: | 木箱 |
产量: | 50 |
“高真空磁控溅射镀膜机 JCPY500 北京泰科诺科技”详细介绍
一、产品概述
1、适用:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。
2、产品特点/用途:
► 设备可溅射/蒸发两用;占地面积小,价格便宜,性能稳定,使用维护成本低;
► 可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等;
► 镀膜示例:银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等;
► 单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。
二、技术参数
型号 | JCPY500 |
真空腔室结构 | 立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷 |
真空腔室尺寸 | Φ500×H450mm,带Load-Lock功能,支持单片或多片进取样 |
加热温度 | 室温~500℃ |
溅射方式 | 向上溅射 |
旋转基片台 | Φ150mm |
膜厚不均匀性 | Φ100mm范围内≤±5.0% |
溅射靶/蒸发电极 | Φ2、Φ3、Φ4英寸磁控靶2-4支可选 |
工艺气体 | 3路气体流量控制 |
控制方式 | PLC控制/工控机全自动控制可选 |
占地面积 | (主机)L1800×W800×H1845mm |
总功率 | ≥15KW |